US2006062988-A1 -- US3248339-A   WACKER-CHEMIE;  US3984358-A   NEFEDOWA G S (NEFE-Individual);  US5306647-A   SIEMENS AG (SIEI)   LEHMANN V,  STENGL R,  WENDT H,  HOENLEIN W,  WILLER J;  US5759373-A   ASAHI GLASS CO LTD (ASAG)   TERADA I,  SAITO I,  MIYAKE H,  KOMATSU K,  UMEMURA K,  IWAMOTO J;  US6136412-A   3M INNOVATIVE PROPERTIES CO (MINN)   DEBE M K,  SPIEWAK B E,  BENSON O;  US20020042451-A1   ;  US20030062311-A1   ;  US20040115783-A1   ;  US20040168968-A1   ;  US6495014-B1   UNIV CHICAGO (UYCG)   DATTA R,  LIN Y,  BURKE D,  TSAI S;  US6786771-B2   GAILUS M W (GAIL-Individual)   GAILUS M W;  US6797140-B2   UNIV CHICAGO (UYCG)   LIN Y J,  HESTEKIN J,  ARORA M,  ST MARTIN E J;  US6835520-B2   FUJI XEROX CO LTD (XERF)   BANDO K,  HOZUMI M,  SUZUKI T,  KOSEKI K;  WO2006031953-A1 -- EP659482-A1   ;  EP680932-A2   UK ATOMIC ENERGY AUTHORITY (UKAT)   HILL M R H,  TURNER A D,  NEVILLE M D;  US3248339-A   WACKER-CHEMIE;  US3984358-A   NEFEDOWA G S (NEFE-Individual);  US5759373-A   ASAHI GLASS CO LTD (ASAG)   TERADA I,  SAITO I,  MIYAKE H,  KOMATSU K,  UMEMURA K,  IWAMOTO J;  US20020042451-A1   ;  US20030062311-A1   ;  US20040115783-A1   ;  US6495014-B1   UNIV CHICAGO (UYCG)   DATTA R,  LIN Y,  BURKE D,  TSAI S;  US7507318-B2 -- EP659482-A1   ;  EP680932-A2   UK ATOMIC ENERGY AUTHORITY (UKAT)   HILL M R H,  TURNER A D,  NEVILLE M D;  US3248339-A   WACKER-CHEMIE;  US3984358-A   NEFEDOWA G S (NEFE-Individual);  US5306647-A   SIEMENS AG (SIEI)   LEHMANN V,  STENGL R,  WENDT H,  HOENLEIN W,  WILLER J;  US5759373-A   ASAHI GLASS CO LTD (ASAG)   TERADA I,  SAITO I,  MIYAKE H,  KOMATSU K,  UMEMURA K,  IWAMOTO J;  US6136412-A   3M INNOVATIVE PROPERTIES CO (MINN)   DEBE M K,  SPIEWAK B E,  BENSON O;  US20020042451-A1   ;  US20030062311-A1   ;  US20040115783-A1   ;  US20040168968-A1   ;  US6495014-B1   UNIV CHICAGO (UYCG)   DATTA R,  LIN Y,  BURKE D,  TSAI S;  US6786771-B2   GAILUS M W (GAIL-Individual)   GAILUS M W;  US6797140-B2   UNIV CHICAGO (UYCG)   LIN Y J,  HESTEKIN J,  ARORA M,  ST MARTIN E J;  US6835520-B2   FUJI XEROX CO LTD (XERF)   BANDO K,  HOZUMI M,  SUZUKI T,  KOSEKI K